7.5本章小结

  该小节就为此章节来做个详细的总结介绍,本章为激光频率微调频率微调技术的扩展性研究。包括激光频率微调技术产业化可能的问题,以及激光频率微调技术的其他应用。

  激光频率微调技术产业化的问题在于,石英晶振的激光频率微调,在微调停止的最初一段时间内存在着10ppm的频率漂移现象。这个现象的存在会给实验结果带来误差。解决办法之一就是,找出频率漂移的规律,在微调的时候预留出漂移量,使漂移之后的结果恰好为目标频率。

  激光频率微调代替传统的频率微调方法,可以大大提高生产效率。利用激光束的定位准确,移动控制灵活等优点,可以对多片晶振晶片同时进行激光高速扫描。对每一片晶片进行实时频率检测,一旦达到目标频率通过软件控制,停止对该片的扫描,同时激光束继续对其余晶片进行扫描,且由于激光束聚焦紧密,不会周围贴片晶振晶片产生影响。

  利用准分子激光器作为激光光刻光源,可以大大的提高分辨率。以g线、线以及KF准分子激光为光源的光刻机适用于特征尺寸从5-0.18pm的数代芯片的生产,以ArF准分子激光为光源的光刻机适用于特征尺寸为0.18-0.10m的芯片生产。特征尺寸0.1-0.07m工艺水平的光刻,采用157nm的F2准分子激光器作为光源,可进一步提高分辩率。

  此外,利用激光扫描,还可以对石英晶体振荡器晶片表面进行缺陷检测。当聚焦的激光束在晶片表面扫描时,表面的缺陷会产生漫散射光。这些散射光中包含了缺陷的形状种类和位置等丰富的信息。通过光电探测器收集这些散射光,同时选择调整激光束的入微角,光收集的空间角,不同类型的滤光器以及激光的波长、功率和光的偏振态等参数,使数据处理系统能增强探测的缺陷信号,抑制噪声信号,最终在观察系统中获得被检测缺陷的映象。