TXC晶振成立于1983年,主要研发生产石英晶振,贴片晶振,石英晶体振荡器,有源晶振,中文名台湾晶技晶振,在台湾晶体行业中,TXC晶振居于榜首,是晶体行业的领先者.CEOB2B晶振平台在以下列表中为大家整理了台湾TXC有源晶振2.5x2封装8W-19.200MBA-T晶振对应的原厂代码.
2.5x2.0mm晶振简直就是为小型智能产品而生.超薄,超小,节省电路空间.顺应市场小型化发展,满足产品需求,2520有源晶振,提供1.8V~5V多种电源电压,精度稳定,性能佳.在产品中使用具有高可靠性等特点.
石英晶体谐振器,石英晶振是一种用于稳定频率和选择频率的重要电子元件.具有频率稳定度高、Q值高、成本低的特点,广泛应用于时间频率基准和为时序逻辑电路提供同步脉冲.随着电子信息技术及产业的飞速发展,尤其是数字电子技术的广泛应用,石英晶振,贴片晶振,石英晶体元器件的市场需求量快速增长,同时对其性能的要求向高频率和高精度.下面CEOB2B晶振给大家介绍会影响到石英晶振频率的因素有哪些?
一、老化
老化效应是石英晶体固有的物理现象,其谐振频率随时间推移缓慢减小或增加的变化过程,称为石英晶体的老化.AT切石英晶体谐振器的老化主要源于下述方面:
1、谐振器内部石英晶格的不完善导致石英晶体在工作时其结构发生变化,此是长期效应:另气体的分解和吸收导致极板质量的改变或迁移,影响会持续数周或数年;
2、由于温度梯度效应而产生的老化;
3、因压力释放效应而产生老化,此为温度梯度效应过程的函数,一般持续数月;
二、温度
环境温度是影响石英晶振,石英晶体谐振器频率变化的最主要因素,石英晶振,石英晶体谐振器谐振频率会随温度的改变而变化,这种性质称其频率温度特性:石英晶体谐振器的频率-温度特性除与其本身物理特性有关外,还与其切割角度(即切型)和加工流程有一定关系.恒温型和温度补偿型晶体振荡器这两类高稳定度晶体振荡器正是基于频率温度特性研制而成的.
三、其它因素,除温度和老化两大主要因素之外,下述因素给谐振器的谐振频率也会带来一定的影响.
激励电平的变化:研究表明,激励电平对晶体振荡器谐振频率有明显的影响;激励电流的过大或者过小,都将影响石英晶振晶体的老化性能和谐振频率的长期或者短期稳定度,从而激励电平的是否稳定直接影响到石英晶体谐振器的频率稳定度.
除此以外;负载的变化、电源电压的波动以及核辐射等也都会导致石英晶振,石英晶体谐振器的谐振频率发生变动.当石英晶体谐振器用于某些精度要求特别高的场合时,这些因素给谐振器谐振频率造成的影响也是不可忽视的.
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至于中高端电子产品所需求的石英晶振,之前小编也介绍过,都是来自于日本,台湾,欧美等地,按照目前情况来看,在晶振领域,我国想要自给自足的话,还需要十几年或者以上的时间来发展及完善现有产品.
晶振厂家这些最基本的.现在大家都比较喜爱便携式的电子产品,由此可见,传统形式的石英晶体振荡器早已不能满足现今阶段的电子需求,小型化发展,高精度,高稳定度的发展势在必行.着也是考验各大晶振生产商的重要指标,
石英晶振除了压电效应以外,还有一个不能被忽略的特性,就是温漂。晶振的振荡频率会随着环境温度的变化发生微小的偏移,这是晶振固有的特性。正是由于温漂的存在,普通晶振的精度很难做的很高,常见的晶振精度多为40ppm,20ppm,很难做到10ppm以下。这种精度在一些对晶振精度要求不高的场合,如微处理器的时钟输入等,完全能够满足需求。但是在无线通信,蜂窝应用,广播电视等应用领域,需要时钟精确同步,普通晶振就很难满足系统需求了。
为了解决温漂带来的影响,系统就要选择精度更高的温补晶振或者恒温晶振。温补晶振是通过感应环境温度,然后将温度信息转换成控制量控制晶振的输出频率。现在的温补晶振多采用数字化技术,能够达到更精确的控制。而恒温晶振更进一步,将晶体置于恒温槽内,通过设置恒温工作点,使恒温槽保持一个恒温的状态,晶体在恒温槽内就可以不受外界温度的影响,大大提高晶振输出频率的稳定度。温补晶振和恒温晶振的输出精度都能够达到1ppm甚至更高。能够满足严苛的系统需求。
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1.MFM的应用14.5.6
磁记录介质材料是MFM研究最多的物质之一。事实上,在MFM发展初期,MFM首先用于各种磁记录介质和磁头,在很小的尺度上仔细研究写入的磁斑、记录的轨道、磁头磁场分布等,以分析和判断磁盘和磁头的性能。现在, MFM业已成为高密度磁盘常规测试的工具。超高密度磁存储技术的发展要求在纳米尺度研究磁性晶体的微结构及探测磁性晶体的单畴性,因而必须采用MFM。
Martin等人第一次利用MFM对Tb1 ofer薄膜(一种重要的磁光材料)中写入的磁畴结构(静磁场)作了研究,空间分辨率达到100nm。MFM也可对软磁膜的磁畴进行结构研究。MFM具有足够的灵敏度和分辨率来观察图像中波动结构等磁信息。针尖样品,石英晶振元件间距少于100nm时,还可清晰看到针尖诱导畴壁运动的证据。
再次,MFM能够用来观察磁粒子的微磁学性质和一些物质的磁壁结构近年来,利用MFM对有机铁磁体以及生物分子磁性的研究也已经引起科学工作者的广泛重视。
2.MFM研究中的一些问题
各种磁性材料磁力(梯度)图的准确测量。实际上这就要使磁针尖和样品匹配起来,尽可能减少磁针尖和样品的相互影响。
MFM的定量测量和磁畴结构的计算机模拟。MFM的定量测量,在很大的程度上是测定磁针尖的性质,如磁矩、弹性系数、品质因数等。但这是相当困难的,何况小小的磁针尖上还可能存在磁性微结构。这就要用校准的方法,并对针尖作合理的近似,才能开展对所测磁力图的解释、分析和计算机模拟工作。
MFM在1987年发明后的很短期间内,分辨率已达到50nm。但至今其现实的横向分辨率仍停留在50-20nm,表明在MFM现有的构架内分辨率已难以突破,要获得实质性的提高,需要有新的思想.
我们接着前面介绍到的石英晶振片的由来以及工作原理,我们接着说石英晶振晶片的电极对膜厚监控、速率控制至关重要。目前,市场上提供三种标准电极材料:金、银和合金。
金是最广泛使用的传统材料,它具有低接触电阻,高化学温定性,易于沉积。金最适合于低应力材料,如金,银,铜的膜厚控制。用镀金晶振片监控以上产品,即使频率飘移IMHz,也没有负作用。然而,金电极不易弯曲,会将应力从膜层转移到石英基片上。转移的压力会使晶振片跳频和严重影响质量和稳定性。
银是接近完美的电极材料,有非常低的接触电阻和优良的塑变性。然而,银容易硫化,硫化后的银接触电阻高,降低晶振片上膜层的牢固性。
银铝合金晶振片最近推出一种新型电极材料,适合高应力膜料的镀膜监控,如siO,SiO2,MgF2,TiO2。这些高应力膜层,由于高张力或堆积的引]力,经常会使晶振片有不稳定,高应力会使基片变形而导致跳频。这些高应力膜层,由于高张力或堆积的引力,经常会使贴片晶振,石英晶振片有不稳定,高应力会使基片变形而导致跳频。银铝合金通过塑变或流变分散应力,在张力或应力使基体变形前,银铝电极已经释放了这些应力。这使银铝合金晶振片具有更长时间,更稳定的振动。有实验表明镀Si02用银铝合金晶振片比镀金寿命长400%。
镀膜科技日新月异,对于镀膜工程师来说,如何根据不同的镀膜工艺选择最佳的晶振片确实不易。下面建议供大家参考
(1)镀低应力膜料时,选择镀金晶振片
最常见的镀膜是镀A、Au、Ag、Cu,这些膜层几乎没有应力,在室温下镀膜即可膜层较软,易划伤,但不会裂开或对基底产生负作用。建议使用镀金晶振片用于上述镀膜,经验证明,可以在镀金晶振片镀60000埃金和50000埃银的厚度。
(2)使用镀银或银铝合金镀高应力膜层
NiCr、Mo、Zr、Ni-Cr、Ti、不锈钢这些材料容易产生高应力,膜层容易从晶体基片上剥落或裂开,以致出现速率的突然跳跃或一系列速率的突然不规则正负变动。有时,这些情况可以容忍,但在一些情况下,会对蒸发源的功率控制有不良作用。
(3)使用银铝合金晶振片镀介质光学膜
MgF2、SiO2、A2O3、TiO2膜料由于良好的光学透明区域或折射率特性,被广泛用于光学镀膜,但这些膜料也是最难监控的,只有基底温度大于200度时,这些膜层才会与基底有非常良好的结合力,所以当这些膜料镀在水冷的基底晶振片上,在膜层凝结过程会产生巨大的应力,容易使晶振片在1000埃以内就回失效。
石英晶振在如今产品中的应用变得尤为重要,为了更好的使用晶振,我们除了要知道晶振的生产材料,晶振使用型号参数等一些条件之外,关于晶振的使用注意事项,以及石英晶振,贴片晶振晶片的一些关注点也应该知道.在前面的文章中CEOB2B晶振平台介绍了晶振晶片的由来以及其工作原理,下面我们要介绍的是膜厚控制仪用电子组件引起晶振片的高速振动和晶振监控的优缺点.
膜厚控制仪用电子组件引起晶振片的高速振动,约每秒6百万次(6MHz),镀膜时,测试每秒钟振动次数的改变,从所接受的数据中计算膜层的厚度。为了确保晶振片以6MHz的速度振动,在真空室外装有“振荡器”,与晶控仪和探头接口连接,振荡器通过迅速改变给晶振片的电流使晶振片高速振动。一个电子信号被送回晶控仪。晶控仪中的电路收到电子信号后,计算晶振片的每秒振速。这个信息接着传送到个微处理器,计算信息并将结果显示在晶控仪上:
(1)沉积速率(Rate) (埃/秒)
(2)已沉积的膜厚( Thickness) (埃)
(3)晶振片的寿命(Lie) (%)
(4)总的镀膜时间(Time) (秒)
更加精密的设备可显示沉积速率与时间的曲线和薄膜类型。
石英晶振监控的优缺点
◆优点:
1.晶振法是目前唯一可以同时控制膜层厚度和成膜速率的方法。
2.输出为电讯号,很容易用来做制程的自动控制。
3.对于厚度要求不严格的滤光片可以利用作为自动制程镀膜机。
4.镀金属时,石英监控较光学监控来的方便精确。
◆缺点
1.厚度显示不稳定。
2.只能显示几何厚度,不能显示折射率。
3.一般精密光学镀膜厚度只用做参考,一般用作镀膜速率的控制。
◆所以一台镀膜设备往往同时配有石英晶体振荡器监控法和光学膜厚监控法两套监控系统,两者相互补充以实现薄膜生产过程中工艺参数的准确性和重复性,提高产品的合格率。
正是这样丰富的32.768K晶振才给我们很多电子产品出现创造条件,但是当我们还沉浸在稀里糊涂的32.768K石英晶体谐振器中时,32.768K石英晶体振荡器又出现在我们眼中,瞬间只能觉得自己整个人不好,快被32.768K晶振弄晕乎了。32.768K有源晶振我们暂且不说,但32.768K无源晶体相信每位接触晶振的朋友都知道它,并且32.768K无源晶振出现的时间是石英晶振中最早最久的,但并不是说我们每个人都已经透彻的了解它了。不相信,那就来看看下面这些小知识你是否都知道呢?
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石英晶体振荡器的压电效应以及等效电路原理
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